| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光刻投射装置，它包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对所述投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到该基底的目标部分上的投射系统；其中，该投射光束入射到其上的至少一个光学元件是多光学层光学元件，所述多光学层光学元件具有至少一个包含Mo-Cr合金的光学层。在本发明的器件制造方法中，投射光束入射到其上的至少一个光学元件是多光学层光学元件，该多光学层光学元件具有至少一个包含Mo-Cr合金的光学层。 | ||
| 申请公布号 | CN1284048C | 申请公布日期 | 2006.11.08 |
| 申请号 | CN03147209.5 | 申请日期 | 2003.06.04 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | R·库尔特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/68(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对所述投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到该基底的目标部分上的投射系统；其特征在于：该投射光束入射到其上的至少一个光学元件是多光学层光学元件，所述多光学层光学元件具有至少一个包含Mo-Cr合金的光学层。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||