发明名称 面板区域不均匀性补偿装置与方法
摘要 在显示面板上定义出复数个显示区域,其中每一该些显示区域各具有一面板特性资料。接收一画素资料,并判断此画素资料系对应于该些显示区域之中何者。根据此画素资料所对应之显示区域的面板特性资料,校正此画素资料。将校正后之画素资料传送至显示面板。
申请公布号 TWI265469 申请公布日期 2006.11.01
申请号 TW094104958 申请日期 2005.02.18
申请人 祥硕科技股份有限公司 发明人 虞嘉磊;许志雄;庄铭璋
分类号 G09G3/18(2006.01) 主分类号 G09G3/18(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 1.一种显示面板区域不均匀性的补偿方法,至少包含:在一显示面板上定义出复数个显示区域,其中每一该些显示区域具有一面板特性资料;接收一画素资料;判断该画素资料系对应于该些显示区域之中何者;根据该画素资料所对应之显示区域的面板特性资料,校正该画素资料;以及根据校正后之该画素资料,修正该显示面板。2.如申请专利范围第1项所述之补偿方法,其中该补偿方法更包含:量测每一该些显示区域之光学特性;以及根据该些显示区域之光学特性,建立每一该些显示区域之面板特性资料,其中该些面板特性资料系用以统一同一画素资料在该些显示区域中的显示效果。3.如申请专利范围第2项所述之补偿方法,其中该补偿方法系使用色度仪或是频谱分析仪量测该些显示区域的光学特性。4.如申请专利范围第2项所述之补偿方法,其中该光学特性包含亮度、彩度以及色调。5.如申请专利范围第2项所述之补偿方法,其中该些面板特性资料系以该些显示区域之光学特性中的最高値或最低値为基准来建立。6.如申请专利范围第1项所述之补偿方法,其中该显示区域之最大数目系等于该显示面板之画素个数,且该显示区域之最小数目系等于一。7.一种画素资料的补偿方法,至少包含:使用一显示区域判断单元,以接收一画素资料,并判断该画素资料在一显示面板上所对应的显示区域;根据一面板特性记录单元中所储存之与该画素资料相对应之显示区域的面板特性资料,使用一面板特性校正单元校正该画素资料;以及根据校正后之该画素资料,修正该显示面板。8.如申请专利范围第7项所述之补偿方法,其中该补偿方法更包含:在该显示面板上定义出复数个显示区域;以及建立每一该些显示区域的面板特性资料。9.如申请专利范围第8项所述之补偿方法,其中该补偿方法更包含:使用一光学特性量测单元量测每一该些显示区域的光学特性;以及根据该些显示区域之光学特性,建立每一该些显示区域之面板特性资料,并将该些显示区域的面板特性资料储存于该面板特性记录单元中,其中该些面板特性资料系用以统一同一画素资料在该些显示区域中的显示效果。10.如申请专利范围第9项所述之补偿方法,其中该光学特性包含亮度、彩度以及色调。11.如申请专利范围第9项所述之补偿方法,其中该些面板特性资料系以该些显示区域之光学特性中的最高値或最低値为基准来建立。12.如申请专利范围第7项所述之补偿方法,其中该显示区域之最大数目系等于该显示面板之画素个数,且该显示区域之最小数目系等于一。13.一种显示面板区域不均匀性的补偿装置,至少包含:一显示区域判断单元,用以判断一画素资料在一显示面板上所对应的显示区域,其中该显示面板具有复数个显示区域;一面板特性纪录单元,具有该些显示区域之面板特性资料,该面板特性纪录单元系电性连接该显示区域判断单元,并根据该画素资料所对应之显示区域选择出一对应之面板特性资料;以及一面板特性校正单元,电性连接该面板特性纪录单元,并根据该对应之面板特性资料,校正该画素资料。14.如申请专利范围第13项所述之补偿装置,其中该面板特性校正单元系根据该对应之面板特性资料产生一校正数据,并以该校正数据校正该画素资料。15.如申请专利范围第13项所述之补偿装置,其中该显示区域之最大数目系等于该显示面板之画素个数,且该显示区域之最小数目系等于一。16.如申请专利范围第13项所述之补偿装置,其中该补偿装置更包含:一光学特性量测单元,用以量测每一该些显示区域的光学特性,其中该些面板特性资料系根据该些显示区域之光学特性而建立,且该些面板特性资料系用以统一同一画素资料在该些显示区域中的显示效果。17.如申请专利范围第16项所述之补偿装置,其中该光学特性量测单元系为色度仪或是频谱分析仪。18.如申请专利范围第16项所述之补偿装置,其中该光学特性包含亮度、彩度以及色调。19.如申请专利范围第16项所述之补偿装置,其中该些面板特性资料系以该些显示区域之光学特性中的最高値或最低値为基准来建立。20.如申请专利范围第13项所述之补偿装置,其中该显示区域判断单元、该面板特性纪录单元以及该面板特性校正单元系整合于一积体电路晶片中。图式简单说明:第1图系绘示本发明之一较佳实施例的方法流程图;第2图系绘示此较佳实施例之定义显示区域的方法流程图;第3A图系绘示本发明之一较佳实施例之设备示意图;以及第3B图系绘示本发明之一较佳实施例之电路功能方块图。
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