| 主权项 |
1.一种粉粒体压力-位置动态量测系统,其包括:一位移装置,该位移装置系包含一第一滑轨、一第二滑轨及一第三滑轨,而各滑轨系藉由连接杆连结成一相对移动状,且各滑轨系连接有一讯号传输单元,并于该讯号传输单元连接有一位移控制单元;以及一压力感测装置,该压力感测装置系由一固接于上述第三滑轨上之探测单元、一与探测单元连接之传输单元、以及一与传输单元连接之压力控制单元所构成。2.依申请专利范围第1项所述之粉粒体压力-位置动态量测系统,其中,该第一滑轨系为X轴位移滑轨。3.依申请专利范围第1项所述之粉粒体压力-位置动态量测系统,其中,该第二滑轨系为Y轴位移滑轨。4.依申请专利范围第1项所述之粉粒体压力-位置动态量测系统,其中,该第三滑轨系为Z轴位移滑轨。5.依申请专利范围第1项所述之粉粒体压力-位置动态量测系统,其中,该第一、二及第三滑轨内系分别设置有一导螺杆及滚珠轴承,且各滑轨之一端系具有一伺服马达。6.依申请专利范围第1项所述之粉粒体压力-位置动态量测系统,其中,该探测单元系由一气动式压力缸、及一与该气动式压力缸连接之探测棒所构成。7.依申请专利范围第1项所述之粉粒体压力-位置动态量测系统,其中,该压力感测装置之传输单元系为一气压管。8.依申请专利范围第1项所述之粉粒体压力-位置动态量测系统,其中,该位移控制单元与压力控制单元系设置于一控制箱上。图式简单说明:第1图,系本发明之侧视状态示意图。第2图,系本发明之立体外观示意图。第3图,系本发明之使用状态示意图。 |
