发明名称 场发射显示器之间隔体
摘要 本发明系有关于一种场发射显示器之间隔体。此间隔体是夹置于一阴极发射基板以及一显示面板之间用以支撑场发射显示器之架构。其包括有至少二绝缘层,用以电性绝缘,以及至少一金属层夹置于二绝缘层的中间,并且金属层具有复数个通孔以提供电子通过。
申请公布号 TWI265544 申请公布日期 2006.11.01
申请号 TW094121127 申请日期 2005.06.24
申请人 大同股份有限公司;财团法人工业技术研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCHINSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号 发明人 罗吉宗;杨宗翰;邱正茂;赖诗文;林正丰;林兆焄
分类号 H01J29/02(2006.01) 主分类号 H01J29/02(2006.01)
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;杨庆隆 台北市松山区敦化北路102号9楼;林志鸿 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项 1.一种场发射显示器之间隔体,系夹置于一阴极发射基板以及一显示面板之间,包括有:至少二绝缘层,用以电性绝缘;以及至少一金属层夹置于二该绝缘层的中间,并且该金属层具有复数个通孔以提供电子通过。2.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中该金属层为薄板状之金属层。3.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中该金属层为网状之金属层。4.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中每二绝缘层之间夹置有一个该金属层。5.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中每二绝缘层之间夹置有复数个该金属层。6.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中该通孔之壁面系选自由凹斜面、平斜面、垂直面及凸斜面所成组合之一。7.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中各该通孔之壁面系由一凹面朝上之凹斜面和一凹面朝下之凹斜面组合而成。8.如申请专利范围第7项所述之间隔体,其中该二凹斜面尺寸大小不同。9.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中各该金属层之该通孔的尺寸是由该阴极电子发射基板往该显示面板的方向逐渐变大。10.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中各该金属层之该通孔中心不在同一垂直于该阴极电子发射基板之直线上。11.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中每一该绝缘层系由复数个绝缘支柱所组成。12.如申请专利范围第1项所述之间隔体,其中每一该绝缘层系由复数个连续管壁所组成。图式简单说明:图1系本发明一较佳实施例之场发射显示器结构侧视图。图2系图1中金属层之立体图。图3系本发明另一金属层(金属网)之侧视图。图4系本发明另一金属层之侧视图。图5系本发明另一金属层之侧视图。图6系本发明另一较佳实施例之场发射显示器结构侧视图。图7系本发明之另一间距物的多层金属层位置配置之示意图。图8系本发明之另一间距物的多层金属层位置配置之示意图。
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