| 发明名称 | 用于微奈米转印之均压装置 | ||
| 摘要 | 一种用于微奈米转印之均压装置，该均压装置系用来提供均匀之转印压力于基板与模具间之成形材料层，并且至少包括一均压件，令该均压件可供直接接触该基板或该模具其中一者，俾使转印时之各点压力均相等，故可于传递均匀之转印压力之际，达到简化结构之效果。 | ||
| 申请公布号 | TW200638461 | 申请公布日期 | 2006.11.01 |
| 申请号 | TW094113378 | 申请日期 | 2005.04.27 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 陈守仁;陈钏锋;何侑伦;巫震华;王维汉;陈来胜 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 陈昭诚 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 | ||