| 主权项 |
1.一种防眩光学薄膜,包含:一透明薄膜基板,具有 微细不均匀表面结构设于透明薄膜基板至少一侧 上,其中不小于10之倾斜角之比例不大于2%,且在不 均匀表面中之各突之平均间距为自1微米至50微 米。 2.如申请专利范围第1项之防眩光学薄膜,其中各 突之平均间距为自1微米至20微米。 3.如申请专利范围第1项之防眩光学薄膜,其中在自 1至2微米2薄膜表面所量测对于规律反射面之平均 倾斜角为不小于1至小于5。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之防眩光学薄 膜,在其最上方表面上含有一抗反射层。 5.如申请专利范围第1至3项中任一项之防眩光学薄 膜,其中微细不均匀表面结构是以压花粗化薄膜表 面而形成,使防眩光学薄膜防眩。 6.如申请专利范围第5项之防眩光学薄膜,另含一抗 反射层,其中由如下式(I)所定义之算术平均粗糙度 之保持百分比R不小于30%: R=RA/RB 式(I) 其中RA代表防眩光学薄膜在65℃和95%RH(相对湿度) 之环境中贮存1,000小时后之表面算术平均粗糙度; 而RB代表防眩光学薄膜贮存于65℃和95%RH(相对湿度 )环境前之表面算术平均粗糙度。 7.如申请专利范围第1至3项中任一项之防眩光学薄 膜,至少含有一向前散射层,夹插于防眩层与基板 之间。 8.一种制备防眩光学薄膜之方法,包含在透明薄膜 基板之至少一面上设置一微细不均匀表面结构,方 法中包括:薄膜表面之压花,使不均匀表面中不小 于10之倾斜角之比例不大于2%,且各突之平均间 距为自1微米至50微米。 9.如申请专利范围第8项之方法,其中各突之平均 间距为自1微米至20微米。 10.如申请专利范围第8项之方法,其中在自1至2微米 2之薄膜表面上所量得对于规律反射面之平均倾斜 角为自不小于1至小于5。 11.如申请专利范围第8至10项中任一项之方法,其中 防眩光学薄膜包含一抗反射层于最上方之表面层 上,且抗反射层之表面接受压花。 12.如申请专利范围第11项之方法,其中由如下式(I) 所定义之算术平均粗糙度之保持百分比R不小于30% : R=RA/RB 式(I) 其中RA代表抗反射层表面在65℃和95%RH(相对湿度) 之环境内贮存1,000小时后之算术平均粗糙度;而RB 代表抗反射层表面在贮存于65℃和95%RH(相对湿度) 前之算术平均粗糙度。 13.如申请专利范围第12项之方法,另含:使防眩光学 薄膜压花后在含水量不小于10重量%之溶液中或在 溶液之蒸汽中接受60℃至200℃之温度10,000至100,000 秒。 14.一种制备含有透明薄膜基板和被设置于基板至 少一面上之防眩层之防眩光学薄膜之方法,防眩层 具有微细不均匀之表面结构,方法包括:调整防眩 层使不小于10之倾斜角之比例不大于2%,且在微细 不均匀表面中各突之平均间距为自1微米至50微 米。 15.一种偏光板,包含一偏光片和分别层积于偏光片 两表面上之两表面保护膜,其中各表面保护膜至少 有一为根据申请专利范围第1至7项中任一项之防 眩光学薄膜。 16.一种显示单元,含有如申请专利范围第1至7项中 任一项之防眩光学薄膜,或如申请专利范围第15项 之偏光板。 图式简单说明: 第1图是一剖面模型图,表示根据本发明防眩光学 薄膜各层之构造。 第2图是一模型图,表示在本发明中倾斜角之量测 。 第3图举例表示设置具有防眩性质之涂覆型抗反射 膜之方法实施例。 第4图是一示意剖面图,举例表示待压花之抗反射 膜之基本层结构。 第5图举例说明从层上观看之二维网状结构。 第6图举例说明从层上观看之二维网状结构。 |
