发明名称 基板处理装置
摘要 本发明的目的在于提供一种在处理基板期间使基板适当支撑在支撑台上、同时在将基板装载到支撑台上或者从支撑台举起时也可以适当处理基板的机构。设置与基板(90)的周边部接触的第一支撑销(33)、与基板的部接触的第二支撑销(34)。第一支撑销的下端由固定设置在升降板(351)上的滑动接触板(352)支撑,第二支撑销的下端由提高加固构件(354)支撑。以贯通固定设置在升降板上的滑动接触板(353)的方式配置提高加固构件的下部,相对于升降板在规定的范围内升降自由地支撑。以第二支撑销以及提高加固构件的上下方向的尺寸加起来等于从保持面(30)到固定板(350)的上表面的尺寸的方式来设计。
申请公布号 CN1855416A 申请公布日期 2006.11.01
申请号 CN200610073620.3 申请日期 2006.04.13
申请人 大日本网目版制造株式会社 发明人 柿村崇;山本广
分类号 H01L21/687(2006.01);H01L21/677(2006.01);H01L21/67(2006.01);H01L21/00(2006.01) 主分类号 H01L21/687(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 高龙鑫;王玉双
主权项 1.一种基板处理装置,是对基板进行处理的基板处理装置,其特征在于,具有:支撑台,其在执行上述处理时将基板支撑为大致水平状态;第一支撑销以及第二支撑销,其从上述支撑台的上表面的背面侧插入到设置在上述支撑台的上表面上的贯通孔中,通过向上述上表面的上方突出而支撑基板;销支撑机构,其相对于上述支撑台升降自由地支撑上述第一支撑销以及上述第二支撑销;一个驱动机构,其经由上述销支撑机构而使上述第一支撑销以及上述第二支撑销分别在上升位置和下降位置之间移动,上述第二支撑销在将基板装载到上述支撑台上时,先于上述第一支撑销到达上述下降位置,另一方面,在使上述支撑台所支撑着的基板上升时,迟于上述第一支撑销突出到上述上表面的上方,上述销支撑机构在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述下降位置的状态下,分别支撑上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端,以使上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。
地址 日本京都府