| 发明名称 | 处理掩膜设计输出要求的系统及方法 | ||
| 摘要 | 一种用以处理掩膜设计输出要求的系统。模板数据库存储多个用于不同工艺技术的掩膜制具模板，每一模板包含用于该工艺技术的其中之一的不同工艺的一组掩膜制具设定。查询数据库存储关于该工艺的掩膜制具数据的相异点的查询层级。处理器用以接收界定该掩膜设计输出要求的该工艺技术的技术数据，依据接收的该技术数据选取该模板的其中之一，依据选取的该模板选取并呈现该查询中的至少一个，并依据对该查询的回答数据决定该掩膜制具设定的值。 | ||
| 申请公布号 | CN1855106A | 申请公布日期 | 2006.11.01 |
| 申请号 | CN200610074184.1 | 申请日期 | 2006.04.04 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 王心媺;曹标灼;陈予;陈思萍 |
| 分类号 | G06F17/50(2006.01) | 主分类号 | G06F17/50(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王玉双;郑特强 |
| 主权项 | 1.一种用以处理掩膜设计输出要求的系统，其特征在于，包括：模板数据库，其存储多个用于不同工艺技术的掩膜制具模板，每一模板包含用于该工艺技术的其中之一的不同工艺的一组掩膜制具设定；查询数据库，其存储该工艺的掩膜制具数据的相异点的查询层级；以及处理器，其用以接收界定该掩膜设计输出要求的该工艺技术的技术数据，依据接收的该技术数据选取该模板的其中之一，依据选取的该模板选取并呈现该查询中的至少一个，并依据对该查询的回答数据决定该掩膜制具设定的值。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||