首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Lithographischer Apparat mit System zur Bestimmung des Abbe-Abstandes
摘要
申请公布号 DE60120000(T2) 申请公布日期 2006.10.19
申请号 DE20016020000T 申请日期 2001.01.12
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 GROENEVELD, ROGIER HERMAN MATHIJS;LOOPSTRA, ERIK ROELOF;BURGHOORN, JACOBUS;LEVASIER, LEON MARTIN;STRAAIJER, ALEXANDER
分类号 G01B11/00;G03F9/00;G01B15/00;G03F7/20;G03F7/213;H01L21/027 主分类号 G01B11/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com