| 发明名称 | 等离子体处理装置和高频电力供给装置 | ||
| 摘要 | 本发明的等离子体处理装置包括：处理容器，其内部可减压；第1电极，配置在所述处理容器内；处理气体供给部件，用于将处理气体供给到所述处理容器内；高频电源部，输出具有VHF带频率的高频电力；匹配器，与所述高频电源部和所述第1电极电连接，获得阻抗的匹配；以及传输线路，从所述高频电源部至所述匹配器传输所述高频电力。在所述处理容器内可配置被处理基板，通过传输到所述第1电极的所述高频电力产生的等离子体，可对该被处理基板实施等离子体处理。所述传输线路比可产生所述高频电力的第3高次谐波的谐振状态的最短长度短。 | ||
| 申请公布号 | CN1280873C | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN200410030234.7 | 申请日期 | 2004.02.12 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;新电元工业株式会社 | 发明人 | 速水利泰;岩崎征英;高平淳一;渡部一良;小松真一;佐佐木雄一 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/3065(2006.01);C23C14/34(2006.01);C23C16/513(2006.01);H05H1/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘宗杰;叶恺东 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：处理容器，其内部可减压；第1电极，配置在所述处理容器内；处理气体供给部件，用于将处理气体供给到所述处理容器内；高频电源部，输出具有VHF带频率的高频电力；匹配器，与所述高频电源部和所述第1电极电连接，获得阻抗的匹配；以及传输线路，从所述高频电源部至所述匹配器传输所述高频电力，在所述处理容器内配置被处理基板，通过传输到所述第1电极的所述高频电力产生的等离子体，对该被处理基板实施等离子体处理，所述传输线路比可产生所述高频电力的第3高次谐波的谐振状态的最短长度还要短。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||