纳米高纯二氧化硅的生产方法

摘要

本发明涉及一种纳米高纯二氧化硅的生产方法，该方法采用化学直接合成法，改良了国内外传统的沉淀法，生产中采用预先在原料中加入稀释水和添加剂，控制工艺条件，阻止粒子团聚。其产品粒径在5～20nm之间，产品纯度可达到99.98％。本发明方法具有工艺流程短、设备数量少、易于操作和控制、产品质量稳定、建厂周期短、对环境无污染等优点。

主权项

1、一种纳米高纯二氧化硅的生产方法，其特征在于该方法包括以下工艺步骤：a)向反应釜中加入水和SiO2含量为28～30％的水玻璃，搅拌均匀，加热到90～100℃，保持该温度15～25分钟，过滤，静置12小时后制成稀释水玻璃；b)将硫酸稀释到14～16％，冷却到15～25℃，搅拌，加入多聚甲醛、乙醇、三乙醇胺、EDTA，静置12小时后待用；c)启动反应釜，放入准备好的稀释水玻璃，控制温度在30～35℃，再加入准备好的硫酸，直到反应液的pH值为7±0.5，反应1～1.5小时，再搅拌10～30分钟，然后静置30分钟；d)将上述反应液在搅拌中升温到90～95℃，保持该温度30～40分钟，再用30～40分钟加入稀硫酸，保持反应体系的pH值为5.0～6.0，保持该温度30～40分钟，制成水合二氧化硅；e)将上述水合二氧化硅过滤，洗涤，直到洗出液中无Cl-、SO42-、Na+为止；f)将洗净后的沉淀在280～320℃干燥，控制其水分含量为5～8％，得到纳米高纯二氧化硅。