| 发明名称 | 化学－机械抛光组合物及其使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种化学－机械抛光组合物，其包含：(a)二氧化硅颗粒、(b)以所述抛光组合物总重量计约5×10<SUP>－3</SUP>至约10毫摩尔/千克的至少一种选自由钙、锶、钡及其混合物组成的群组的碱土金属、(c)约0.1至约15重量％的氧化剂、及(d)含水液体载剂。本发明还提供一种抛光组合物，其可视需要含有氧化剂、约5×10<SUP>－3</SUP>至约10毫摩尔/千克的至少一种选自由钙、锶及其混合物组成的群组的碱土金属。本发明进一步提供使用上述抛光组合物抛光基材的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1849378A | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN200480025793.7 | 申请日期 | 2004.09.10 |
| 申请人 | 卡博特微电子公司 | 发明人 | 大卫·J·施罗德;凯文·J·默根伯格 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01);C09K3/14(2006.01);H01L21/321(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/3105(2006.01) | 主分类号 | C09G1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王允方;刘国伟 |
| 主权项 | 1、一种化学-机械抛光组合物，其包含：(a)二氧化硅颗粒，(b)以所述抛光组合物总重量计约5×10-3至约10毫摩尔/千克的至少一种选自由钙、锶、钡及其混合物组成的群组的碱土金属，(c)约0.1至约15wt.％的氧化剂，及(d)一含水液体载剂，其中所述抛光组合物的pH值为约7至约13。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺斯州 | ||