| 发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 用于湿浸式光刻装置的液体供给系统可以在投影系统的最后一个元件和基底之间提供层流的浸液。控制系统可使溢出的概率最小化，并且引出装置包括配置成使振动最小化的出口阵列。 | ||
| 申请公布号 | CN1847987A | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN200610074086.8 | 申请日期 | 2006.04.04 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·巴克斯;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根达姆;J·H·W·雅各布斯;N·坦卡特;N·R·坎帕;F·米各彻尔布林克;E·伊弗斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种光刻装置，包括：配置成保持基底的基底台；配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；和阻挡元件，其具有围绕投影系统的最后一个元件和基底台之间的空间的表面，所述阻挡元件配置成将液体限制在最后一个元件和基底之间的空间中，所述阻挡元件包括配置成将液体提供到所述空间的液体入口和配置成从所述空间去除液体的液体出口，其中液体入口和/或液体出口围绕所述表面的内周边的一部分延伸。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||