发明名称 solução acìdica aquosa e método para depositar eletroliticamente revestimentos de cobre, assim como, uso da dita solução
摘要 "SOLUçãO ACìDICA AQUOSA E MéTODO PARA DEPOSITAR ELETROLITICAMENTE REVESTIMENTOS DE COBRE, ASSIM COMO, USO DA DITA SOLUçãO". A presente invenção refere-se a uma solução acídica aquosa para deposição eletrolítica de revestimentos de cobre lisos e nivelados, brilhosos decorativos e altamente polidos sobre grandes partes de áreas de metal ou plástico, que compreende (a) pelo menos um aditivo de alto peso molecular contendo oxigênio; e (b)pelo menos um composto de enxofre solúvel em água, em que a solução adicionalmente contém (c) pelo menos um derivado halogenado aromático tendo a fórmula geral (I), onde R~ 1~, R~ 2~, R~ 3~, R~ 4~, R~ 5~ e R~ 6~, cada qual independentemente, representam radicais selecionados do grupo que consiste em hidrogênio, aldeído, acetila, hidróxi, hidroxialquila tendo de 1 a 4 átomos de carbono, alquila tendo de 1 a 4 átomos de carbono, e halogênio, com a condição de que o número de radicais R~ 1~, R~ 2~, R~ 3~, R~ 4~, R~ 5~ e R~ 6~, que são halogênios, varie de 1 a 5.
申请公布号 BRPI0413376(A) 申请公布日期 2006.10.17
申请号 BR2004PI13376 申请日期 2004.07.28
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH 发明人 WOLFGANG DAHMS;CARL CHRISTIAN FELS;GUENTHER BAUER
分类号 C25D3/38;(IPC1-7):C25D3/38 主分类号 C25D3/38
代理机构 代理人
主权项
地址