| 摘要 |
使用光学邻近修正(optical proximity correction；OPC)修改一积体电路之原始配置以获得一第二配置。在OPC期间，为每一特征便利地识别(2)对闪光之敏感度。为绘制(4)闪光，在一曝光场上绘制强度之幅度，其通常为对应于一步进机之曝光的矩形区域。将该曝光场分成多个区域，其中一区域特征在于各处具有大体上相同幅度。对每一特征做出是否进行进一步修正之决策。若需要修正，则修正量部分系依据该特征位于的区域及该特征之敏感度。此相同方法适用于除在曝光场内依据位置变化之闪光的其它特性。 |
