发明名称 萤光性顺丁烯二醯亚胺及其用途
摘要 式I萤光性顺丁烯二醯亚胺(下称马来醯亚胺)其中 R1及R2分别表示其中Q1表示氢,卤原子,苯基,-E-C1-C8烷基,-E-苯基,其中苯基可以C1-C8烷基,卤原子,C1-C8烷氧基,二苯基胺基,-CH=CH-Q2,其中Q2表示苯基,啶基或硫苯基取代至多三次,Q2可以C1-C8烷基,卤原子, C1-C8烷氧基,-CN取代至多三次,其中E表示氧或硫,以及其中R21表示C1-C8烷基,苯基,其可以C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,或二甲基胺基取代至多三次,以及R22及R23分别表示氢,R21,C1-C8烷氧基,或二甲基胺基,或- NR4R5,其中R4及R5分别表示氢,苯基或C1-C8烷基-羰基,或-NR4R5表示5-或6-员环系,以及R3表示烯丙基,其中Q3表示氢,卤原子,C1-C8烷氧基,或C1-C8烷基-醯胺基,无取代或经取代C1-C8烷基,无取代或以卤原子,-NH2,-OH或C1-C8烷基取代苯基至多取代三次,以及Z表示二价或三价基团选自取代或无取代伸环己基,较佳1,4-伸环己基,三-2,4,6-三基,C1-C6伸烷基,1,5-伸基,组成的组群其中 Z1、Z2及Z3分别表示伸环己基或以C1-C4烷基取代或无取代伸苯基,较佳取代或无取代1,4-伸苯基取代至多三次,以及其中R6及R7分别表示 n表示1、2或3,及m表示1或2,但规定R1及R2不可同时表示苯基,及其用于电致发光装置以及作为空隙侦测化合物等不同用途。
申请公布号 TWI263636 申请公布日期 2006.10.11
申请号 TW089116378 申请日期 2000.08.14
申请人 席巴特制品化学股份有限公司 发明人 和彦 国本;纯二 小谷;邦彦 儿玉;博 山本;派屈克维胡斯特雷坦;苏尼亚梅格特;亚达尔伯特伯拉格
分类号 C07D207/444;G01N21/64;C09K11/06;H05B33/14 主分类号 C07D207/444
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种式I马来醯亚胺 其中 R1及R2分别表示 其中Q1表示氢,卤原子,苯基,-E-C1-C8烷基,-E-苯基,其 中苯基可以C1-C8烷基,卤原子,C1-C8烷氧基,二苯基胺 基,-CH=CH-Q2,其中Q2表示苯基,啶基或硫苯基取代 至多三次,Q2可以C1-C8烷基,卤原子,C1-C8烷氧基,-CN取 代至多三次,其中E表示氧或硫,以及其中R21表示C1-C 8烷基,苯基,其可以C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,或二甲基 胺基取代至多三次,以及R22及R23分别表示氢,R21,C1-C 8烷氧基,或二甲基胺基, 或-NR4R5,其中R4及R5分别表示氢,苯基或C1-C8烷基-羰 基,或-NR4R5表示5-或6-员环系, 以及R3表示烯丙基, 其中Q3表示氢,卤原子,C1-C8烷氧基,或C1-C8烷基-醯胺 基,无取代或经取代C1-C8烷基,无取代或以卤原子,- NH2,-OH或C1-C8烷基取代苯基至多取代三次,以及Z表 示二价或三价基团选自取代或无取代伸环己基,三 -2,4,6-三基,C1-C6伸烷基,1,5-伸基, 其中 Z1、Z2及Z3分别表示伸环己基或以C1-C4烷基取代至 多三次或无取代之伸苯基, 以及其中R6及R7分别表示 n表示1、2或3,及m表示1或2,但R1及R2不可同时表示苯 基,且下列之式I化合物系被排除于外,即: R1与R2为p-甲基苯基,且R3为p-n-丁基苯基, R1与R2为p-氯苯基,且R3为2,4-二-第三丁基苯基,以及 R1与R2为m-氯苯基,且R3为p-n-丁基苯。 2.如申请专利范围第1项之式I马来醯亚胺,其中该 马来醯亚胺系为式II化合物 ,式III化合物 3.如申请专利范围第1项之式I马来醯亚胺,其中该 取代或无取代之伸环己基系为1,4-伸环己基。 4.如申请专利范围第1项之式I马来醯亚胺,其中该 取代或无取代之伸苯基系为取代或无取代之1,4-伸 苯基。 5.一种制备如申请专利范围第1项之式I马来醯亚胺 之方法,系经由一种马来酐与一种胺反应,该方法 包含使用式V二芳基马来酐作为马来酐 其中R18及R19分别表示如申请专利范围第1项定义之 R1或R2, 以及胺H2N-R3或二胺H2N-Z-NH2其中R3及Z定义如申请专 利范围第1项。 6.一种制备如申请专利范围第1项之式I马来醯亚胺 之方法,包含于第一步骤如申请专利范围第5项定 义之二芳基马来酐V与乙酸铵反应;然后于第二步 骤,如此所得中间物Vb 与硷反应;以及于第三步骤,所得阴离子与卤素化 合物X-R3或X-Z-X反应,其中R3及Z定义如申请专利范围 第1项,及X表示卤原子。 7.一种侦测空隙的方法,其包含以含有如申请专利 范围第1项之式I马来醯亚胺的配方作为紫外光萤 光材料来涂覆一表面。 8.如申请专利范围第7项之方法,其中Z表示1,4-伸环 己基。 9.如申请专利范围第7项之方法,其中Z1,Z2,Z3分别表 示取代或无取代之1,4-伸苯基。 10.一种制备闪烁器薄膜、照明太阳能集电器与有 机电致发光装置之方法,其包含将如申请专利范围 第1项之式I马来醯亚胺加入一成膜组成物中。 11.如申请专利范围第10项之方法,其中Z表示1,4-伸 环己基。 12.如申请专利范围第10项之方法,其中Z1,Z2,Z3分别 表示取代或无取代之1,4-伸苯基。 13.一种制备印刷油墨、影印调色剂、滤色镜及有 色高分子有机物质之方法,其包含将如申请专利范 围第1项之式I马来醯亚胺加入一溶剂或一高分子 量有机物质中。 14.如申请专利范围第13项之方法,其中Z表示1,4-伸 环己基。 15.如申请专利范围第13项之方法,其中Z1,Z2,Z3分别 表示取代或无取代之1,4-伸苯基。 16.一种检视本体表面之方法,其包含下列步骤: (a)使用包含展现边缘萤光之化合物的组合物覆盖 表面, (b)使用紫外光检视该被覆盖表面的可见光,指示表 面有瑕疵存在, 其中该展现边缘萤光之化合物为如申请专利范围 第1项之式I马来醯亚胺, 或式I马来醯亚胺,其中 R1与R2为p-甲基苯基且R3为p-n-丁基苯基, R1与R2为p-氯苯基且R3为2,4-二-第三丁基苯基,以及 R1与R2为m-氯苯基且R3为p-n-丁基苯。 17.如申请专利范围第16项之方法,其中该展现边缘 萤光之化合物系为式Ia马来醯亚胺, 其中R3系如申请专利范围第1项所界定者。 18.如申请专利范围第17项之方法,其中R3为1,1'-(1,2- 乙二基)贰[3,4-二苯基]-1H-咯-2,5-二酮。 19.一种制造物件,包含: 具有欲覆盖的表面之一本体; 该本体表面上之一层涂装材料, 搀混有该涂装材料用以回应曝露于紫外光而发出 可识别之可见光的萤光装置,其中该萤光装置为如 申请专利范围第1项之式I马来醯亚胺, 或式I马来醯亚胺,其中 R1与R2为p-甲基苯基且R3为p-n-丁基苯基, R1与R2为p-氯苯基且R3为2,4-二-第三丁基苯基,以及 R1与R2为m-氯苯基且R3为p-n-丁基苯。 20.如申请专利范围第19项之制造物件,其中该萤光 装置为式Ia马来醯亚胺 其中R3系如申请专利范围第1项所界定者。 21.如申请专利范围第20项之制造物件,其中R3为1,1'- (1,2-乙二基)贰[3,4-二苯基]-1H-咯-2,5-二酮。 22.一种电致发光装置,其包含萤光的如申请专利范 围第1项之式I马来醯亚胺, 或式I马来醯亚胺,其中 R1与R2为p-甲基苯基且R3为p-n-丁基苯基, R1与R2为p-氯苯基且R3为2,4-二-第三丁基苯基,以及 R1与R2为m-氯苯基且R3为p-n-丁基苯。 23.如申请专利范围第22项之电致发光装置,其中该 萤光的马来醯亚胺为式Ia马来醯亚胺 其中R3定义如申请专利范围第1项。
地址 瑞士