| 发明名称 | 高纯度3,5－二羟基－6－庚烯酸衍生物的制备方法 | ||
| 摘要 | 提供一种通过控制如变性物质之类的杂质的含量来制备高纯度3，5－二羟基－6－庚烯酸衍生物的方法。当通过包括将通式(1)的3，5－二羟基－6－庚烯酸衍生物与含有C<SUB>1－4</SUB>低级醇的溶剂接触这一步骤的方法来制备3，5－二羟基－6－庚烯酸衍生物时，使用氧化性物质含量尽可能低(其相对于通式(I)的3，5－二羟基－6－庚烯酸衍生物最多为0.05摩尔当量)的含醇溶剂来抑制3，5－二羟基－6－庚烯酸衍生物中所含有的杂质的量，其中，R是C<SUB>1－4</SUB>烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN1845899A | 申请公布日期 | 2006.10.11 |
| 申请号 | CN200480025191.1 | 申请日期 | 2004.09.22 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 吉村雄治;安川真巳;森清修二;高田泰孝;松本浩郎 |
| 分类号 | C07D215/14(2006.01) | 主分类号 | C07D215/14(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 徐迅 |
| 主权项 | 1.一种3，5-二羟基-6-庚烯酸衍生物的制备方法，所述方法包括将通式(1)的3，5-二羟基-6-庚烯酸衍生物与含有C<sub>1-4</sub>低级醇的溶剂接触的步骤，<img file="A2004800251910002C1.GIF" wi="1067" he="554" />其中，R是C<sub>1-4</sub>烷基，其特征在于，使用氧化性物质含量尽可能低的含醇溶剂来抑制3，5-二羟基-6-庚烯酸衍生物中所含有的杂质的量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||