蚀刻液组成物

摘要

本发明系提供用于各种金属膜及金属氧化物膜之蚀刻液组成物。该组成物不含醋酸、无刺激性臭味、性能变化少，且可使用于半导体装置及平面显示器装置等电子装置之制程者。本发明之蚀刻液组成物含有磷酸、硝酸、甲氧基醋酸及水。