| 主权项 |
1.一种场发射显示器之电极结构制作方法,该电极结构制作方法包括有:a)、先取一基板;b)、利用网印制程将油墨图案化制作,于基板表面上形成电极层;c)、待上述油墨经图案化为电极层后,进行烧结;d)、待上述烧结后,利用一表面研磨技术,对电极层表面进行研磨,即形成场发射显示器之电极结构。2.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该基板系由玻璃材质所制成。3.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该油墨内含之粉体粒径分布以0.1m至10m为佳。4.如申请专利范围第1或3项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该油墨可为银材质。5.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该烧结过程中会依据所烧结材料条件设定烧结温度。6.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该烧结后电极层材料晶粒大小分布为1至10m。7.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该电极层在研磨后表面平坦度误差在0.1m以下。8.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,在研磨后,可以简单水清洗、烘乾及高压空气吹等工序。9.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该研磨技术是利用研磨机之研磨元件,进行研磨。10.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该研磨元件为羊毛毡。11.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,在研磨过程中,利用喷洒工具喷洒研磨介质于电极层表面上。12.如申请专利范围第11项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该研磨介质采用高硬度之氧化金属粉体悬浮溶液。13.如申请专利范围第11项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该研磨介质可为氧化铝,氧化锆,氧化锰、氧化硒等之任一种氧化金属粉体。14.如申请专利范围第11项所述之场发射显示器之电极结构制作方法,其中,该研磨介质之粉体粒径1m以下,进行研磨。15.一种场发射显示器之电极结构制作方法,该电极结构制作方法包括有:a)、先取一基板;b)、利用微影制程将油墨图案化制作,于基板表面上形成电极层;c)、待上述油墨经图案化为电极层后,进行烧结;d)、待上述烧结后,利用一表面研磨技术,对电极层表面进行研磨,即形成场发射显示器之电极结构。图式简单说明:第一图,系本发明之场发射显示器之电极结构制作流程示意图。第二图,系本发明之电极结构示意图。第三图,系本发明之电极结构研磨过程示意图。第四图,系本发明之电极结构研磨完成示意图。 |
