| 摘要 |
本发明之显影废液处理方法，其特征在于包含选择性地进行以下步骤：测定含有氢氧化四烃基铵水溶液的显影废液中之四烃基铵(TAA)浓度与金属杂质之含量，依测定之每单位TAA之金属杂质含量对该显影废液进行精制处理，使该作为显影液使用之氢氧化四烃基铵水溶液再生之步骤；将该显影废液进行废弃处理步骤，或将其以作为显影液之未使用的氢氧化四烃基铵水溶液稀释后，再对经稀释之显影废液进行精制处理，使该作为显影液使用之氢氧化四烃基铵水溶液再生之步骤；各步骤之选择基准之每单位TTA之金属杂质含量设定为50ppm。依此方法，对光阻显影步骤所排放的含有氢氧化TAA之显影废液，可进行长期安定之精制处理，其结果，所再生出之高纯度氢氧化TAA水溶液，即使于要求高精度的光阻显影步骤中也能当作显影液而再利用。 |
