METHOD FOR LASER MICROSTRUCTURING A MATERIAL USING A PROTECTIVE LAYER WITH A THRESHOLD INTENSITY DEFINED BY REFLECTION AND ABSORPTION CHARACTERISTICS

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Mikrostrukturierung eines Materials, bei dem mit einem Laserstrahl, der in seinem Strahlquerschnitt einen Bereich mit erhöhter Intensität aufweist, in einem Strukturierungsschritt ein Materialabtrag erfolgt. Erfindungsgemäß wird vor dem eigentlichen Struktu- rierungsschritt eine Schutzschicht auf die zu strukturierende Oberfläche aufgebracht. Die durch die Reflexions- und Absorp- tionseigenschaften bestimmte Schwellintensität der Schutz- schicht ist so auf die Laserstrahlung abgestimmt, dass die Schutzschicht innerhalb einer vorbestimmten Bestrahlungs- periode nur im Bereich der erhöhten Intensität verdampft, um die darunter liegende Materialoberfläche für die Strukturie- rung freizugeben.