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发明名称 Method of anisotropic etching of substrates
摘要
申请公布号 EP1047122(B1) 申请公布日期 2006.09.27
申请号 EP20000400462 申请日期 2000.02.21
申请人 ALCATEL 发明人 PANDHUMSOPORN, TAMARAK;YU, KEVIN;FELDBAUM, MICHAEL;PUECH, MICHEL
分类号 H01L21/3065;C23F4/00;H01L21/302 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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