| 发明名称 | 结合装置、曝光装置、器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置，用液体充满投影光学系统和基板之间，并通过所述投影光学系统和所述液体把图案像投影到所述基板上来对所述基板进行曝光，所述投影光学系统包含具有与所述液体接触的光学构件的第一群以及与该第一群不同的第二群，第一群支撑在第一支撑构件上，所述第二群分离地支撑在与所述第一支撑构件不同的第二支撑构件上。 | ||
| 申请公布号 | CN1839464A | 申请公布日期 | 2006.09.27 |
| 申请号 | CN200480023880.9 | 申请日期 | 2004.07.08 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 小野一也;柴崎祐一 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李德山 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，用液体充满投影光学系统和基板之间，并通过所述投影光学系统和所述液体把图案像投影到所述基板上来对所述基板进行曝光，其中：所述投影光学系统包括具有与所述液体接触的光学构件的第一群以及与所述第一群不同的第二群；所述第一群支撑在第一支撑构件上；所述第二群分离地支撑在与所述第一支撑构件不同的第二支撑构件上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||