| 摘要 |
<p>L'invention concerne une source de photons comprenant une source de plasma d'ions multichargés à la résonance cyclotron électronique (RCE) qui comprend une chambre à plasma cylindrique sous vide (CH), un guide (GD) pour injecter des micro-ondes dans la chambre, un dispositif (I) pour injecter un gaz dans la chambre, un système de pompage (P) pour évacuer le gaz ionisé qui résulte de l'action des micro-ondes sur le gaz (g), et une structure magnétique cylindrique (1, 2, 3a, 3b, 4) qui entoure la chambre (CH) et qui produit au moins deux surfaces fermées (S) alignées selon l'axe de la chambre et sur lesquelles le champ magnétique prend la valeur du champ de résonance RCE, les photons étant extraits par une ouverture (02) alignée avec l'axe de la chambre.L'invention s'applique à la lithographie EUV.</p> |
