发明名称 电场发光显示装置之雷射修复方法
摘要 本发明提供一种电场发光显示装置之雷射修复方法,为不会造成针孔所引发的黑点,而能修复短路不良处的技术。其系在异物(100)的周边区域设定照射区域(111),以照射雷射。不会对附着有异物(100)的有机EL元件(60)造成伤害,而能防止针孔产生。且,若对偏离异物(100)的周边区域照射雷射,则其能量将会以照射区域(111)为中心呈同心圆状地传递,并间接地也供应到异物(100)。因此,可在阳极层(61)与阴极层(65)之间形成高电阻区,而得以修复异物(100)所带来的短路不良处。
申请公布号 TWI262741 申请公布日期 2006.09.21
申请号 TW092136109 申请日期 2003.12.19
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 西川龙司;永田良三;小川隆司
分类号 H05B33/02;H01S1/00 主分类号 H05B33/02
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种电场发光显示装置之雷射修复方法,系于具 备复数个画数,且于各个画素具有电场发光层位在 阳极层与阴极层间而构成的电场发光元件之电场 发光显示装置之雷射修复方法中,藉由检测附着在 前述电场发光元件上之异物,并对该异物的周边区 域照射雷射,而在附着前述异物的画素之阳极层与 阴极层之间形成高电阻区域。 2.如申请专利范围第1项之电场发光显示装置之雷 射修复方法,其中,系对前述异物的周边区域照射 复数次的雷射。 3.如申请专利范围第1项或第2项之电场发光显示装 置之雷射修复方法,其中,利用前述雷射照射的雷 射之波长为在532nm以下。 图式简单说明: 第1图为适用于本发明之EL显示装置之平面图。 第2图(a)及(b)为适用于本发明之EL显示装置之平面 图。 第3图为说明本发明实施形态的EL显示装置之雷射 修复方法的平面图。 第4图为说明本发明实施形态的EL显示装置之雷射 修复方法的平面图。 第5图为习知例有机EL元件的剖面图。 第6图为习知例有机EL元件的剖面图。
地址 日本