剥离剂、及其剥离方法、剥离剂循环设备及剥离剂控制装置

摘要

当制造半导体器件和液晶显示(LCD)时，从衬底上剥离抗蚀剂的剥离剂，使用剥离剂剥离抗蚀剂的剥离方法，剥离剂循环器件及剥离剂控制装置。剥离剂包括有机胺化合物、质子二醇醚化合物、非质子多极性化合物和烷基吡咯烷酮化合物，在腐蚀工艺期间低温下短时间内可以容易地剥离已经历了化学和/或物理变化的抗蚀剂层，同时几乎不腐蚀下金属线。此外，由于加热期间剥离剂蒸发很少，因此剥离剂的更换周期变长。此外，剥离剂可以容易地通过蒸发和成分补充再生。具有权利要求12所要求保护结构的剥离剂再循环设备可以容易地通过蒸发和成分补充再生废剥离剂。具有权利要求16所要求保护结构的剥离剂控制装置可以自动地控制剥离剂的组分，并自动地将剥离剂提供到剥离设备。

主权项

1.一种剥离剂再循环设备，包括：第一蒸馏单元，用于从废剥离剂中除去水；第二蒸馏单元，用于接收已从第一蒸馏单元除去水的废剥离剂，并从废剥离剂中除去溶解的抗蚀剂；以及补充单元，用于向第二蒸馏单元提供的废剥离剂中补充有机胺化合物和非质子多极性化合物以再生废剥离剂，其中该剥离剂包括有机胺化合物、质子二醇醚化合物、非质子多极性化合物和烷基吡咯烷酮化合物，其中有机胺化合物的含量为10-35重量％，质子二醇醚化合物和非质子多极性化合物的总含量为60-85重量％，烷基吡咯烷酮化合物的含量为0.1-5重量％，各含量基于剥离剂的总重，其中烷基吡咯烷酮化合物是选自N-环己基-2-吡咯烷酮、N-辛基-2-吡咯烷酮、N-十二烷基-2-吡咯烷酮中的至少一种物质。