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发明名称 METHOD FOR FORMING PASSIVATION FILM OF SEMICONDUTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100625790(B1) 申请公布日期 2006.09.20
申请号 KR20040087719 申请日期 2004.10.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/31;H01L21/324 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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