发明名称 | 罩幕的制造方法与图案化制程 | ||
摘要 | 一种罩幕的制造方法,此方法系先于罩幕材料层上形成图案化之牺牲层,且此图案化之牺牲层与罩幕材料层具有不同之蚀刻选择性。然后,以图案化之牺牲层为罩幕,对罩幕材料层进行等向性蚀刻制程而形成罩幕层,此罩幕层的尺寸系小于图案化之牺牲层的尺寸。 | ||
申请公布号 | TW200633003 | 申请公布日期 | 2006.09.16 |
申请号 | TW094106208 | 申请日期 | 2005.03.02 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 林思闽 |
分类号 | H01L21/027 | 主分类号 | H01L21/027 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |