发明名称 罩幕的制造方法与图案化制程
摘要 一种罩幕的制造方法,此方法系先于罩幕材料层上形成图案化之牺牲层,且此图案化之牺牲层与罩幕材料层具有不同之蚀刻选择性。然后,以图案化之牺牲层为罩幕,对罩幕材料层进行等向性蚀刻制程而形成罩幕层,此罩幕层的尺寸系小于图案化之牺牲层的尺寸。
申请公布号 TW200633003 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094106208 申请日期 2005.03.02
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 林思闽
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号