| 摘要 |
本发明提供一高速、精确之以雷射为主的材料处理方法及系统，其中系同步化标靶材料以及一用以处理该材料之脉冲式雷射输出之相对运动。以雷射为主的系统系包括一用以产生一组雷射之脉冲式雷射源，及一在一超过雷射源之位置处自该组雷射脉冲可控制地选择一次组的脉冲以获得脉冲式雷射输出之雷射输出控制器。以雷射为主的系统系进一步包括一用以同步化标靶材料及脉冲式雷射输出的相对运动之机构。一束输送及聚焦次系统将经同步化的脉冲式雷射输出之至少一部分输送至标靶材料作为一雷射材料处理输出以处理标靶材料。一定位次系统相对于脉冲式雷射输出来移动标靶材料。 |
