发明名称 | 标准漏孔及其制作方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种标准漏孔及其制作方法。本发明所提供之测量气体漏率之标准漏孔,其包括一第一基底;及一形成于第一基底上之第二基底;至少一基底在与另一基底结合面上形成有预定数目及尺寸之沟槽结构,从而使之与另一基底结合后共同形成通孔,该通孔之孔壁系被测气体不可渗透。该沟槽结构之槽边角度为其所在基底之一晶面角度,固定不变,且该通孔之孔径尺寸达奈米级。因此,该标准漏孔具有漏率大小可控性好、漏率范围宽,可实现更微小漏率测量等优点。本发明还提供上述标准漏孔之制作方法。 | ||
申请公布号 | TW200632301 | 申请公布日期 | 2006.09.16 |
申请号 | TW094106534 | 申请日期 | 2005.03.04 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 刘亮;葛帅平;胡昭复;杜秉初;郭彩林;陈丕瑾;范守善 |
分类号 | G01M3/02 | 主分类号 | G01M3/02 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 台北县土城市自由街2号 |