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发明名称
微影装置及器件制造方法
摘要
本发明揭示一种浸渍式微影装置,其中一或多个液体分流器定位于一由一液体限制结构包围之空间中。该或该等液体分流器之功能系阻止浸液之一或多个再循环区域的形成,该浸液之一或多个再循环区域可导致该空间中浸液之折射率的变化并藉此导致成像误差。
申请公布号
TW200632587
申请公布日期
2006.09.16
申请号
TW095101425
申请日期
2006.01.13
申请人
ASML公司
发明人
保洛 马丁司 马利亚 利伯葛汀;MARIA;乔汉斯 亨利哈斯 威廉玛斯 贾库博;HENRICUS WILHELMUS;汤矛 优特迪克
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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