曝光装置及元件制造方法

摘要

一种曝光装置，系经由投影光学系统(PL)对基板(P)照射曝光用光来使基板(P)曝光；投影光学系统(PL)具有最接近投影光学系统(PL)之像面之第1光学元件(LS1)、以及次于第1光学元件(LS1)接近像面之第2光学元件(LS2)。该曝光装置具备第2回收口(42)，其设置于较第2光学元件(LS2)下面(T3)高之位置，用以将充满于第1光学元件(LS1)上面(T2)与第2光学元件(LS2)下面(T3)间之第2空间(K2)的第2液体(LQ2)加以回收。