涂布、显像装置及涂布、显像方法

摘要

本发明的课题提供将光阻剂涂布于基板，并将液浸曝光后的基板加以显像，可抑制微粒污染的涂布、显像装置。本发明的解决手段一种涂布、显像装置，属于具备：被连接于具备涂布光阻剂的涂布单元及供给显像液而执行显像单元的处理块体，及执行液浸曝光的曝光装置的介面部的涂布、显像装置，其特征为：在上述介面部具备：基板洗净单元，及第一搬运机构，及第二搬运机构的构成。将曝光后的基板藉由搬运机构搬运至基板洗净单元，而藉由该洗净单元被洗净的基板是经由第二搬运机构被搬运，而抑制微粒的重新附着，就可防止微粒污染扩展至处理块体的各处理单元及在该各处理单元被处理的基板。