摘要 |
"COMPOSIçõES DE REVESTIMENTO SENSìVEIS à LUZ úTEIS PARA ELEMENTOS LITOGRáFICOS". Uma composição sensível à radiação, a qual é principalmente sensível na região próxima à UV e visível do espectro eletromagnético, é composta de um ligante polimérico, um monómero etilenicamente insaturado, um composto absorvedor de radiação, um fotoacelerador, um composto ónio, e um promotor de adesão, os quais são revestidos com uma camada de barreira de oxigênio. Quando aplicada ao suporte adequado e processada, a composição é útil como uma placa de impressão litográfica offset, filme para resistir à cor ou camada protetora de imagem.
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