发明名称 composições de revestimento sensìveis à luz úteis para elementos litográficos
摘要 "COMPOSIçõES DE REVESTIMENTO SENSìVEIS à LUZ úTEIS PARA ELEMENTOS LITOGRáFICOS". Uma composição sensível à radiação, a qual é principalmente sensível na região próxima à UV e visível do espectro eletromagnético, é composta de um ligante polimérico, um monómero etilenicamente insaturado, um composto absorvedor de radiação, um fotoacelerador, um composto ónio, e um promotor de adesão, os quais são revestidos com uma camada de barreira de oxigênio. Quando aplicada ao suporte adequado e processada, a composição é útil como uma placa de impressão litográfica offset, filme para resistir à cor ou camada protetora de imagem.
申请公布号 BR0318515(A) 申请公布日期 2006.09.12
申请号 BR20030018515 申请日期 2003.09.24
申请人 IBF INDUSTRIA BRASILEIRA DE FILMES LTDA. 发明人 ANDRE LUIZ ARIAS;LUIZ NEI ARIAS;MARJORIE ARIAS;MARIO ITALO PROVENZANO
分类号 A61M15/00;A61M16/20;G03F7/028;G03F7/029;G03F7/033;G03F7/085;G03F7/09;(IPC1-7):G03F7/028 主分类号 A61M15/00
代理机构 代理人
主权项
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