| 主权项 |
1.一种光罩,至少包括:一基板;多数条条状图案,配置于该基板上,其中该些条状图案互相平行;以及至少一辅助图案,配置于该基板上,其中该辅助图案呈条状的平行配置于最外侧之条状图案外侧,该辅助图案与该些条状图案具有相同的相位,并且该辅助图案的宽度大于单一条状图案的宽度,当使用该光罩对一待曝光层进行曝光时,只有该些条状图案的图形转移到该待曝光层上。2.如申请专利范围第1项所述的光罩,其中该些条状图案为半透光层,并与该基板的相位相差180度。3.如申请专利范围第2项所述的光罩,其中该辅助图案为透光层。4.如申请专利范围第1项所述的光罩,其中该辅助图案为透光层。5.如申请专利范围第1项所述的光罩,其中于该最外侧之条状图案的外侧仅配置一条辅助图案。6.一种图案形成方法,至少包括下列步骤:提供一光罩,该光罩至少包括:一基板;多数条条状图案,配置于该基板上,其中该些条状图案互相平行;以及至少一辅助图案,配置于该基板上,其中该辅助图案呈条状的平行配置于最外侧之条状图案外侧,该辅助图案与该些条状图案具有相同的相位,并且该辅助图案的宽度大于单一条状图案的宽度,当使用该光罩对一待曝光层进行曝光时,只有该些条状图案的图形转移到该待曝光层上;以及使用该光罩对一待曝光层进行曝光,以使该些条状图案转移至该待曝光层上。7.如申请专利范围第6项所述的图案形成方法,其中该些条状图案为半透光层,并与该基板的相位相差180度。8.如申请专利范围第7项所述的图案形成方法,其中该辅助图案为透光层。9.如申请专利范围第6项所述的图案形成方法,其中该辅助图案为透光层。10.如申请专利范围第6项所述的图案形成方法,其中于该最外侧之条状图案的外侧仅配置一条辅助图案。图式简单说明:图1为本发明较佳实施例之一种光罩的示意图。图2为本发明之另一较佳实施例的一种光罩示意图。图3为使用本发明较佳实施例之光罩所进行之图案形成方法的曝光步骤的剖面示意图。 |
