发明名称 ADHESIVES WITH LOW LEVEL OF RESIDUAL MONOMERS AND PROCESS FOR MANUFACTURING SAME
摘要
申请公布号 KR100623165(B1) 申请公布日期 2006.09.11
申请号 KR19997003804 申请日期 1999.04.29
申请人 发明人
分类号 A61K9/06;A61F13/02;A61K8/81;A61K9/70;A61L15/58;A61Q19/00;C08F6/00;C08F8/04;C09J123/00;C09J125/06;C09J131/04;C09J133/00;C09J133/02;C09J133/06;C09J157/00 主分类号 A61K9/06
代理机构 代理人
主权项
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