发明名称 |
无机取向膜形成方法、无机取向膜、电子设备用基板、液晶板及电子设备 |
摘要 |
一种可以有效地利用标靶(节能且对环境的负担小的方法),而且,能够制造出取向特性(控制液晶材料的取向状态的功能)良好,且,耐光性良好的无机取向膜的无机取向膜的形成方法、由所述形成方法得到的无机取向膜、具有所述无机取向膜的电子设备用基板、液晶板及电子设备。本发明的无机取向膜的形成方法是通过将来自离子束源的离子束照射到标靶,引出溅射粒子,使所述溅射粒子入射到基材上,来形成无机取向膜的方法,其特征在于,不用更换所述标靶整体,进行补充或恢复所述标靶的缺损的修复处理来成膜。 |
申请公布号 |
CN1821853A |
申请公布日期 |
2006.08.23 |
申请号 |
CN200610004143.5 |
申请日期 |
2006.02.20 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
太田英伸 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01);G02F1/133(2006.01);H04N5/225(2006.01);H04N5/74(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1.一种无机取向膜的形成方法,通过将来自离子束源的离子束照射到标靶上,引出溅射粒子,使所述溅射粒子入射到基材上,来形成无机取向膜,其特征在于,不用更换所述标靶整体,进行补充或恢复所述标靶的缺损的修复处理来成膜。 |
地址 |
日本东京 |