发明名称 可正确写入数据的半导体存储装置
摘要 向存储单元阵列12内的非易失性存储单元MC1的存储区域L2和非易失性存储单元MC2的存储区域L1存储多个数据时,第1控制电路200导通开关电路SW52,向位线BL2供给规定的写入电位VCCW。另外,第2控制电路300导通开关电路SW61和SW63,根据各个存储单元存储的数据量,向位线BL1和BL2分别输出源极电位Vg。
申请公布号 CN1822370A 申请公布日期 2006.08.23
申请号 CN200610058827.3 申请日期 2003.01.30
申请人 三菱电机株式会社 发明人 大石司
分类号 H01L27/10(2006.01);H01L27/115(2006.01);H01L29/78(2006.01) 主分类号 H01L27/10(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 刘宗杰
主权项 1.一种半导体存储装置,包括:具有主表面的第1导电型的半导体基片,第2导电型的多个第1导电区域,以规定的间隔形成于上述半导体基片的主表面,上述第1导电型的多个第2导电区域,其形成于上述半导体基片的主表面且分别形成于上述多个第1导电区域的各个区域内,多个存储单元阵列,分别形成于上述多个第2导电区域的各个区域内;上述多个存储单元阵列分别包含多个存储单元,上述多个存储单元分别包括:在上述半导体基片的主表面上形成的第3及第4导电区域,沟道区域,其处于上述半导体基片的主表面,在上述第3导电区域和上述第4导电区域之间形成,在写入动作时产生沟道热电子,第1绝缘膜,其处于上述半导体基片的主表面,在上述沟道区域上形成,电荷存储膜,在上述第1绝缘膜上形成,具有多个存储区域,第2绝缘膜,在上述电荷存储膜上形成,导电层,在上述第2绝缘膜上形成;对上述多个第1导电区域和上述多个第2导电区域,供给规定的电位。
地址 日本东京都