| 发明名称 |
METHOD AND SYSTEM FOR XENON FLUORIDE ETCHING WITH ENHANCED EFFICIENCY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060092876(A) |
申请公布日期 |
2006.08.23 |
| 申请号 |
KR20050085175 |
申请日期 |
2005.09.13 |
| 申请人 |
IDC, LLC |
发明人 |
FLOYD PHILIP D.;CUMMINGS WILLIAM J. |
| 分类号 |
H01L21/3065;B81C99/00;H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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