有机金属错合物及其用作为沈积金属膜的前驱物的用途

摘要

本发明涉及有机金属前驱物，及在基材例如矽、金属氮化物和其他金属层上制造含金属的保形薄膜的沈积方法。有机金属前驱物为下式的N,N’–烷基–1,1–烷基甲矽烷基胺基金属错合物：095103783-p01.bmp其中M为选自VIIb、VIII、IX和X族的金属，并且金属的特定实例包括钴、铁、镍、锰、钌、锌、铜、钯、铂、铱、铼、锇，并且R^1–5可相同或不同并选自氢、烷基、烷氧基、氟代烷基和烷氧基、脂环族基和芳基。095103783-p01.bmp