发明名称 |
遮光膜形成用感光性组成物,以该遮光膜形成用感光性组成物形成之黑色矩阵 |
摘要 |
本发明系提供一种感度及硬化后的遮光性良好之遮光膜形成用感光性组成物。该遮光膜形成用感光性组成物中含有(a)碳黑作为遮光性颜料、(b)光聚合性化合物以及(c)光聚合引发剂,上述碳黑的初级粒径为20~60nm,较理想为30~45nm。 |
申请公布号 |
TW200628976 |
申请公布日期 |
2006.08.16 |
申请号 |
TW094136347 |
申请日期 |
2005.10.18 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
丸山健治;信太胜;内河喜代司 |
分类号 |
G03F7/004;C09C1/48;G03F7/027;G03F7/028;G02B5/20 |
主分类号 |
G03F7/004 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |