曝光方法、电子元件制造方法、曝光装置及照明光学装置

摘要

本发明的目的是提供一种适合在构成电子元件的微细图案的形成中所使用的曝光方法，并为高解析度且廉价的曝光方法。该曝光方法包括：配置邻接于构成电子元件的晶圆等的绕射光栅，并对该绕射光栅照射具有设定的入射角度特性的照明光而进行对晶圆的曝光。依据需要，变更半导体晶圆和该绕射光栅的位置关系，且进行上述曝光。