| 发明名称 | 用于电致发光显示器的氮化铝钝化荧光体 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种新颖的结构，以改善用在交流厚膜介电电致发光显示器内的荧光体的亮度和工作稳定性。该新颖结构包括与荧光膜接触的氮化铝阻挡层，用来避免由于与氧的反应而引起的荧光体的恶化。该阻挡层可以采用与用来沉积和退火荧光膜的工艺相适合的真空沉积工艺进行沉积。本发明特别适用于在采用厚介电层的电致发光显示器内使用的荧光体，在高处理温度下形成并激活荧光膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1820551A | 申请公布日期 | 2006.08.16 |
| 申请号 | CN200380106894.2 | 申请日期 | 2003.12.05 |
| 申请人 | 伊菲雷技术公司 | 发明人 | 刘国 |
| 分类号 | H05B33/14(2006.01);H05B33/22(2006.01);H05B33/10(2006.01);C09K11/84(2006.01);C09K11/88(2006.01) | 主分类号 | H05B33/14(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 黄启行;谢丽娜 |
| 主权项 | 1.一种用于厚膜介电电致发光显示器的改善荧光膜，所述荧光膜选自由下列材料组成的组：(a)稀土元素激活的硫代铝酸钡盐；(b)稀土元素激活的细粒硫化锌；(c)过渡金属激活的硫化锌；(d)稀土元素或过渡金属激活的硒化锌；以及(e)稀土元素或过渡金属激活的硫硒化锌；其中，所述(a)，(b)，(d)和(e)荧光膜设置有位于该荧光膜顶面和/或底面上的氮化铝阻挡层，所述(c)荧光膜设置有位于该荧光膜顶面上的氮化铝阻挡层，所述氮化铝阻挡层改善所述荧光膜与所述显示器之间的界面的稳定性。 | ||
| 地址 | 加拿大艾伯塔省 | ||