| 主权项 |
1.一种可微调式按摩垫,其系包括有下列之构件: 若干凸块,该凸块之下方具有至少二个以上之固定 柱,且凸块上方具有一按摩块;以及 一垫体,该垫体上设置有复数个插孔,用以对应凸 块之固定柱做一插置,该凸块可藉由所插置插孔位 置之改变,以调整凸块于垫体之相对位置。 2.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫,其 中该按摩块外观系呈一半球体及同心圆半球体之 其中一者所构成。 3.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫,其 中该按摩块外观系呈一尖锥体及复数尖锥体之其 中一者所构成。 4.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫,其 中该按摩块外观系呈一矩形体、长矩形体、复数 矩形体及复数长矩形体之其中一者所构成。 5.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫,其 中该凸块内部系设置有一气室,且气室至凸块表面 至少设置一进气孔,利用该进气孔可由外部充填气 体至气室,藉由气室充填气体后,以形成按摩块膨 胀变高及变大之状态。 6.如申请专利范围第5项所述之可微调式按摩垫,其 中该凸块气室系为利用一充气装置进行充气动作, 其前端尖剌部插入进气孔,并施力将充气装置中所 含气体注射至气室中,以使气室膨胀。 7.如申请专利范围第5项所述之可微调式按摩垫,其 中该进气孔靠近气室端设置有一逆止瓣,以使充入 气室之气体呈一稳定不泄漏之状态。 8.如申请专利范围第5项所述之可微调式按摩垫,其 中该按摩块内之气室与按摩块外部系设置有若干 个皱折,以使气室未充气时皱折呈一压缩状态,而 气室充气后,该若干皱折被撑开以形成按摩块膨胀 变高及变大之状态。 9.如申请专利范围第5项所述之可微调式按摩垫,其 中该气室亦可充填液体及粉末状态物,以使凸块按 摩块受到应力时产生不同的作用力。 10.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫, 其中该凸块固定柱之顶端设置有一倒勾,以使凸块 固定于垫体中呈一稳固状态而不易脱落。 11.如申请专利范围第10项所述之可微调式按摩垫, 其中该固定柱之倒勾系呈半圆体、箭体及蕈体之 其中一者。 12.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫, 其中该垫体系可制作成一鞋垫,放置于鞋内来达到 足部按摩之目的。 13.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫, 其中该垫体系可制作成一床垫,置放于床铺上以提 供睡眠时对使用者身体产生按摩之功效。 14.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫, 其中该垫体系可制作成一椅垫,置放于椅子上以提 供使用者身体产生按摩之功效。 15.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫, 其中该垫体系可制作成一环带状,用以套置人体之 适当部位,以进入穴位按摩之目的。 16.如申请专利范围第1项所述之可微调式按摩垫, 其中该凸块固定柱之最佳实施结构系为六个,并于 凸块底部呈现一正六角形,若干凸块可依使用者不 同穴道按摩的需求,以微调其于垫体之相对位置, 而达到自行组装按摩垫以精确按摩人体穴位之功 能者,以呈现最佳固定及微调状态。 图式简单说明: 图一系为本创作可微调式按摩垫之垫体结构示意 图。 图二A系为本创作可微调式按摩垫之凸块第一实施 例剖面侧视结构示意图。 图二B系为本创作可微调式按摩垫之凸块第一实施 例俯视结构示意图。 图三A系为本创作可微调式按摩垫之凸块第二实施 例剖面侧视结构示意图。 图三B系为本创作可微调式按摩垫之凸块第二实施 例俯视结构示意图。 图四A系为本创作可微调式按摩垫之凸块第三实施 例剖面侧视结构示意图。 图四B系为本创作可微调式按摩垫之凸块第三实施 例俯视结构示意图。 图五A系为本创作可微调式按摩垫之凸块第四实施 例剖面侧视结构示意图。 图五B系为本创作可微调式按摩垫之凸块第四实施 例俯视结构示意图。 图六A系为本创作可微调式按摩垫之凸块第五实施 例剖面侧视结构示意图。 图六B系为本创作可微调式按摩垫之凸块第五实施 例俯视结构示意图。 图七系为本创作可微调式按摩垫之凸块内具有气 室而利用一充气装置加以充气之示意图。 图八系为本创作可微调式按摩垫之凸块固定柱为 六个且呈正六角型排列之仰视结构示意图。 图九A系为本创作可微调式按摩垫之凸块固定柱第 一实施例图。 图九B系为本创作可微调式按摩垫之凸块固定柱第 二实施例图。 图九C系为本创作可微调式按摩垫之凸块固定柱第 三实施例图。 图十A系为本创作可微调式按摩垫之凸块气室于其 进气孔设置逆止瓣之第一实施例图。 图十B系为本创作可微调式按摩垫之凸块气室于其 进气孔设置逆止瓣之第二实施例图。 图十C系为本创作可微调式按摩垫之凸块气室于其 进气孔设置逆止瓣之第三实施例图。 |
