| 发明名称 | 基板处理装置以及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板(B)的主面上，使清洗刷部(221、222)的毛束(50)的前端(50H)成为从该毛束(50)延伸的方向沿基板(B)的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端(50H)与基板(B)的主面滑动接触。在该姿势下，前端(50H)与基板(B)的表面滑动接触的同时，该清洗刷部(221)沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。 | ||
| 申请公布号 | CN1814357A | 申请公布日期 | 2006.08.09 |
| 申请号 | CN200510128972.X | 申请日期 | 2005.12.02 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 山本悟史 |
| 分类号 | B08B1/02(2006.01);G02F1/1333(2006.01);H01L21/48(2006.01);H05K3/00(2006.01);H05K3/26(2006.01) | 主分类号 | B08B1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫;王玉双 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：支承基板的支承装置；清洗刷，其具有底座、和由从该底座延伸的多个毛构成的毛束；滑动接触装置，其在上述支承装置所支承的基板的主面上，使上述清洗刷的毛束的前端部从该毛束延伸的方向沿着上述基板的主面向一个方向弯曲了的状态下，而使该前端部与上述基板的主面滑动接触。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||