首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING STEP FOR REMOVING PHOTO-RESIST LAYER
摘要
申请公布号 KR20060089476(A) 申请公布日期 2006.08.09
申请号 KR20050010732 申请日期 2005.02.04
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 HWANG, JEONG WOOK;KIM, IL GOO;NAM, SEO WOO
分类号 H01L21/027;H01L21/3065 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com