| 发明名称 | 蒸发源和采用该蒸发源的蒸镀装置 | ||
| 摘要 | 一种蒸发源和蒸镀装置，该蒸发源将坩埚和加热部以及喷嘴部配置在一个划分空间，缩小其尺寸；所述蒸镀装置利用所述蒸发源将蒸镀物质蒸镀在基板上。所述蒸发源包括：壳体(110)；内设于所述壳体(110)内的坩埚(120)；内设于所述壳体(110)中，用于加热坩埚(120)而设于其周边的加热部；喷嘴部，经由喷射嘴(140)将从所述坩埚(120)蒸发的蒸镀物质喷射到位于壳体(110)外部的基板(220)上。 | ||
| 申请公布号 | CN1814854A | 申请公布日期 | 2006.08.09 |
| 申请号 | CN200510092373.7 | 申请日期 | 2005.08.29 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 金度根;许明洙;郑锡宪;康熙哲;古野和雄 |
| 分类号 | C23C14/26(2006.01) | 主分类号 | C23C14/26(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李贵亮;杨梧 |
| 主权项 | 1.一种蒸发源，其特制在于，包括：壳体；内设于所述壳体内的坩埚；内设于所述壳体中，并为加热坩埚而设于周边的加热部；喷嘴部，经由喷射嘴将从所述坩埚蒸发的蒸镀物质喷射到位于壳体外部的基板上。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||