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发明名称
SPIN-ON GLASS COMPOSITION AND METHOD OF FORMING A SILICON OXIDE LAYER IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS USING THE SAME
摘要
申请公布号
KR100611115(B1)
申请公布日期
2006.08.09
申请号
KR20040026502
申请日期
2004.04.19
申请人
发明人
分类号
H01L21/316
主分类号
H01L21/316
代理机构
代理人
主权项
地址
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