| 发明名称 | 光刻设备、器件制造方法和由此制造的器件 | ||
| 摘要 | 衬底处理设备，包括光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统，用于在投影束的截面赋予图案的单独可控元件阵列，用于把已构图束投影到衬底目标部分的投影系统。该处理设备也包括设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置，和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，以使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。在某些实施例中，从卷提供衬底的长段，但可选择地可以提供一串分立的薄片。 | ||
| 申请公布号 | CN1815370A | 申请公布日期 | 2006.08.09 |
| 申请号 | CN200510121657.4 | 申请日期 | 2005.12.21 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | J·洛夫;B·A·J·勒蒂克休伊斯;P·斯皮特;J·弗卢伊特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1、一种衬底处理设备，包括：光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统；用于给投影束的截面赋予图案以形成已构图束的单独可控元件阵列；和用于把已构图束投影到衬底目标部分上的投影系统；设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置；和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||