| 发明名称 | 用于电磁辐射的掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 用于光刻的掩模及其制造方法。掩模包括衬底，由能反射电磁辐射的材料在衬底上形成的反射层，和以希望的图案形成的吸收图案以使得形成对于电磁辐射的吸收区和电磁射线通过的窗口区，其中吸收图案包括至少一个邻近窗口并且相对于反射层倾斜的侧面。该方法可以包括在衬底上形成由能够反射电磁射线的材料形成的反射层，在反射层上形成由能够吸收电磁射线的材料形成的吸收层，和图案化吸收层以形成具有至少一个邻近窗口的侧面并且具有相对于反射层倾斜的侧面的吸收图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1811593A | 申请公布日期 | 2006.08.02 |
| 申请号 | CN200510121654.0 | 申请日期 | 2005.11.16 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 宋利宪;柳元壹;金锡必;金勋;张丞爀;金元柱;朴永洙 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1、一种用于光刻的掩模，包括：衬底；由能反射电磁辐射的材料在衬底上形成的反射层；以及具有对电磁辐射的吸收区和电磁射线能穿过的窗口的吸收图案，该吸收图案包括至少一个邻近窗口且相对于反射层倾斜的侧面。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||